電子束相關
(Electron beam)
對蒸鍍物質,照射電子束,
進行有再現性的蒸鍍.

●超多層膜
●AR塗層等
5kW 電源/控制面板)
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5kW EB源
20kW 電源)
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超小型・低價格
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超多層膜用
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10kW 電源/控制面板
10kW EB源
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附屬部品等
結晶相關裝置
利用高週波加熱及電阻加熱,
來進行各種各樣的結晶的開發﹑製造的裝置.

●SiC單晶 → 單晶體.
       磊晶矽晶圓等
●氮化物單晶 → 氮化鋁
           (AIN)等
●氧化物單晶 → 鈮酸鋰
         (LiNbO3)等




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布里奇曼長晶設備(Bridgman)
其他
柴式長晶設備
(Czochraski method)
自動直徑控制器(ADC)
浮融帶長晶 FZ設備(Floating Zone)
頂部晶粒溶液長晶 TSSG設備(Top Seeded Solution Growth)
液相磊晶法 LPE設備(Liquid,Phase,Epitaxial)
GaP・InP高壓合成設備
高溫退火設備
碳化矽-CVD設備
碳化矽(SiC)•氮化鋁(AlN)單晶生長裝置
非消耗電弧熔煉單晶長晶設備
磁場中高壓單晶長晶設備
(High pressure single crystal increase device in the magnetic field)
氧化物單晶長晶設備
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氣氛控制式高溫熱處理爐
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各種設計和製造設備
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金属系新素材関連装
  使用高週波加熱,
  加熱或熔化的金屬,
  該裝置用於進行
  各種實驗和新材料的開發。

●非晶態金屬 → 絲帶.薄片等

●金屬粉末 → 霧化粉末
        (Atomization) 等


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各種設計和製造設備
其他
電弧熔煉設備
高週波溶解設備
粉末製造設備
淬火液凝固設備
手套箱
定向凝固,單晶製造裝置
連續鑄造設備
機械合金化設備(Mechanical alloying))
熱壓設備
電弧鑄造設備(casting)
真空電弧熔煉設備
磁懸浮設備(Levitation)
區熔設備(Zone melting)
高純度活性金屬真空熔煉設備
真空熔煉設備
大氣熔煉設備)
旋轉電極法裝備
旋轉磁盤設備
水噴霧設備
氣體噴霧設備(atomize)
液中纺絲設備
淬火薄片製造設備
淬火液凝固設備
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高週波電源
主要是用於用於加熱和溶解的高週波電源。
由我們公司內部自己的設計和製造,可提供各種設備最佳的電源。
高週波電源
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微型向下成長型設備
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向下成長型設備
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超小型單晶長晶設備
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6kW EB源
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NEG-F06AF
NEG-06N系列
各種客製化的EB源
內部磁極片EB源(Inner pole piece)
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小型連續鑄造設備
超小型傾角鑄造設備(Ultra-small-angle casting)
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