電子束相關
(Electron beam)
對蒸鍍物質,照射電子束,
進行有再現性的蒸鍍.

●超多層膜
●AR塗層等
5kW 電源/控制面板)
5kW EB源
20kW 電源)
超小型・低價格
超多層膜用
10kW 電源/控制面板
10kW EB源
附屬部品等
結晶相關裝置
利用高週波加熱及電阻加熱,
來進行各種各樣的結晶的開發﹑製造的裝置.

●SiC單晶 → 單晶體.
       磊晶矽晶圓等
●氮化物單晶 → 氮化鋁
           (AIN)等
●氧化物單晶 → 鈮酸鋰
         (LiNbO3)等




布里奇曼長晶設備(Bridgman)
其他
柴式長晶設備
(Czochraski method)
自動直徑控制器(ADC)
浮融帶長晶 FZ設備(Floating Zone)
頂部晶粒溶液長晶 TSSG設備(Top Seeded Solution Growth)
液相磊晶法 LPE設備(Liquid,Phase,Epitaxial)
GaP・InP高壓合成設備
高溫退火設備
碳化矽-CVD設備
碳化矽(SiC)•氮化鋁(AlN)單晶生長裝置
非消耗電弧熔煉單晶長晶設備
磁場中高壓單晶長晶設備
(High pressure single crystal increase device in the magnetic field)
氧化物單晶長晶設備
氣氛控制式高溫熱處理爐
各種設計和製造設備
金属系新素材関連装
  使用高週波加熱,
  加熱或熔化的金屬,
  該裝置用於進行
  各種實驗和新材料的開發。

●非晶態金屬 → 絲帶.薄片等

●金屬粉末 → 霧化粉末
        (Atomization) 等


各種設計和製造設備
其他
電弧熔煉設備
高週波溶解設備
粉末製造設備
淬火液凝固設備
手套箱
定向凝固,單晶製造裝置
連續鑄造設備
機械合金化設備(Mechanical alloying))
熱壓設備
電弧鑄造設備(casting)
真空電弧熔煉設備
磁懸浮設備(Levitation)
區熔設備(Zone melting)
高純度活性金屬真空熔煉設備
真空熔煉設備
大氣熔煉設備)
旋轉電極法裝備
旋轉磁盤設備
水噴霧設備
氣體噴霧設備(atomize)
液中纺絲設備
淬火薄片製造設備
淬火液凝固設備
高週波電源
主要是用於用於加熱和溶解的高週波電源。
由我們公司內部自己的設計和製造,可提供各種設備最佳的電源。
高週波電源

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超小型單晶長晶設備



6kW EB源

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NEG-F06AF
NEG-06N系列
各種客製化的EB源
內部磁極片EB源(Inner pole piece)
小型連續鑄造設備
超小型傾角鑄造設備(Ultra-small-angle casting)